1 、 Keperluan prestasi asas untuk bahan sasaran titanium
① Kesucian: Sebagai salah satu petunjuk prestasi utama bahan sasaran, kesucian mempunyai kesan penting terhadap prestasi filem nipis. Dalam aplikasi praktikal, keperluan untuk kesucian bahan sasaran berbeza -beza oleh industri. Sebagai contoh, dalam industri mikroelektronik, dengan peningkatan berterusan dalam saiz wafer silikon dan penurunan berterusan dalam pendawaian lebar, keperluan untuk kesucian sasaran juga terus meningkat. Sebelum ini, kesucian sasaran sebanyak 99.995% dapat memenuhi keperluan proses 0.35um IC, tetapi kini menyediakan 0.18um baris memerlukan kesucian sasaran sebanyak 99.999% atau bahkan 99.9999%.
② Kandungan kekotoran: kekotoran dalam pepejal bahan sasaran dan oksigen dan wap air di liang adalah sumber utama pencemaran untuk mendepositkan filem nipis. Oleh itu, keperluan untuk kandungan kekotoran bahan sasaran untuk tujuan yang berbeza juga berbeza. Sebagai contoh, sasaran aloi aluminium dan aluminium tulen yang digunakan dalam industri semikonduktor mempunyai keperluan khusus untuk kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif.
③ Ketumpatan: Untuk mengurangkan liang -liang dalam bahan sasaran pepejal dan meningkatkan prestasi filem sputtered, biasanya diperlukan bahan sasaran mempunyai ketumpatan yang tinggi. Ketumpatan bahan sasaran bukan sahaja mempengaruhi kadar sputtering, tetapi juga mempengaruhi sifat elektrik dan optik filem nipis. Di samping itu, meningkatkan ketumpatan dan kekuatan bahan sasaran dapat lebih baik menahan tekanan terma semasa proses sputtering. Oleh itu, ketumpatan juga merupakan salah satu petunjuk prestasi utama bahan sasaran.
④ Saiz bijirin dan pengagihan saiz bijian: Bahan sasaran biasanya struktur polikristalin, dengan saiz bijian dari mikrometer ke milimeter. Untuk bahan sasaran yang sama, kadar sasaran sputtering dengan bijirin halus biasanya lebih cepat daripada sasaran dengan bijirin kasar; Pengagihan ketebalan filem nipis yang disimpan dengan sasaran sputtering dengan perbezaan kecil dalam saiz bijian (pengedaran seragam) lebih seragam.
2 、 Keperluan kesucian untuk bahan sasaran titanium dalam industri yang berbeza
Bahan sasaran titanium yang digunakan dalam litar bersepadu: Litar bersepadu memerlukan kesucian bahan sasaran titanium yang sangat tinggi, biasanya lebih besar daripada 99.995%, untuk memastikan prestasi dan kestabilan filem nipis.
② Bahan sasaran Titanium yang digunakan dalam paparan panel rata: Memaparkan panel rata termasuk paparan kristal cecair, paparan plasma, paparan electroluminescent, dan paparan pelepasan medan. Memaparkan ini sering menggunakan teknologi salutan sputtering untuk mendepositkan filem nipis semasa proses pembuatan. Antaranya, bahan sasaran titanium adalah salah satu sasaran yang penting, dan kesuciannya biasanya perlu lebih besar daripada 99.9%.
Di samping itu, bahan sasaran titanium boleh digunakan secara meluas dalam bidang berteknologi tinggi seperti elektronik, industri maklumat, hiasan rumah, dan pembuatan kaca automotif. Dalam industri ini, bahan sasaran titanium digunakan terutamanya untuk memaparkan panel permukaan salutan litar bersepadu, panel rata, dan komponen lain, atau sebagai hiasan dan lapisan kaca. Dengan mengoptimumkan prestasi dan kesucian bahan sasaran titanium, tuntutan industri yang berbeza untuk prestasi dan kestabilan filem nipis dapat dipenuhi.
